请介绍一下：射频溅射镀膜机的结构组成

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设备说明：

JIL-1000型真空镀膜机是立式单开门非平衡磁控反应溅射镀膜机。此设备所沉积的膜层在致密度、均匀度、纯度、硬度等方面均有提高。广泛应用于手表、眼镜、通讯、电子、机械、装饰和交通航空等领域的高档装饰和功能性薄膜。

设备特点

本真空镀膜机镀膜室、阀门、管道均采用不锈钢制造，立式、单开门结构；

1、沉积速率快，温升小，能较好抑制打火及靶中毒现象；

2、溅射释放的高能量使膜层密度和附着力有显著提高；

3、触摸屏+PLC,可实现全自动控制，自动/手动随时切换；

4、镀膜室容积大，装载量大，生产效率高。

5、工件架采用公转结构，可设置自动正反转，产品均匀性好。

6、整机配置合理，抽气速率快，噪声小，耗能低。

7、可根据客户要求配多套靶源

主要技术参数：

●极限真空 5.0 X 10-4Pa

●抽气时间 2 X 10-2Pa≤8min(空载)

●镀制硬膜、黑膜 （膜厚1μm）制程时间大约60分钟左右每炉。

●工件转速1-15r/min连续可调。

●沉积速率 Ti≥500nm/min

●功 率 总功率约80KW

●耗 水 量 35m3/h

●设备毛重3500Kg,设备尺寸约5 X 6 X2.3m

设备配置：

镀膜室

真空室结构
不锈钢制造，立式，单开门

真空室规格
Φ1000 X 1000mm

工件架
Φ800 X 850 mm

抽气系统