真空镀膜行业中，氩气的流量大小具体如何控制?

如果是说镀膜时为了调节压力使用的气体
个人认为如下：
氩气如果只是调节压力，一次压可以不计，但是二次压要小于0.5个大气压。氮气也是，主要是因为如果大了，会导致真空仓内的压力变化太剧烈，导致误差。
如果是使用离子源，那么氩气入气量不宜过大，大了导致离子量过大，烧坏部件。压力和上边没什么差别。

用气体质量流量控制器去控制，
氩气的一般也就用500ml/min
入口压力要求不大 1MP到5MP还不够
氮气作用不同 工艺不同 要求不同，
但是普遍都一样

流量大（标准方在1万以上）建议用质量流量计，如果比较小，压力也不高，那么用热式的。氮气也一样。对于气体流量测量，当然进口压力越高越好，流量越大越好，这样测量也更精确。

1.热式气体质量流量控制器（MFC），里面有个温度传感器和速度传感器，流量大小通过高性能比例电磁阀，通过0-5V电压调节阀芯开度大小或频率来精确控制介质的流量大小
2.热气气体质量流量控制器，AE流量计，可控量程2SCCM-200SLM，流量大小，客户只要是在这个范围的流量需求，都能为您选型，通过真空镀膜行业的一些客户了解到 ，他们一般使用的都是微小流量的MFC，集中在100SCCM/MIN 500SCCM/MIN 1000SCCM/MIN
3.进口压力：最大1Mpa 正常工作压力：0.5Mpa MFC不受气体的温度和压力影响它的精度和重复性精度，响应时间快1秒以内达到设定值
4.一般MFC都是以氮气标定的，如客户需要的是测量Ar流量，出厂时，厂家就按氩气标定好，也可提供氩气和氮气之间换算的比列系数，你只要乘以这个系数就可以，进气口压力大小都是一样的

1000sccm
是量程
一般质量流量计都是用氮气调试的

真空镀膜：
一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。