抛光纹路困扰

来源：百度知道 编辑：UC知道 时间：2024/06/30 10:30:54
材料是人工水晶晶片，进行双面平面抛光，抛光粉为CeO2 #8000目，抛光液利用马达循环，上、下盘都贴付有浅槽的黑色抛光皮，抛光时上、下盘各自顺逆时针转动，上盘没有气压控制，靠上盘自身重量。

晶片抛光完成后，用激光干涉仪可以看出晶片满面都有有规则的抛光纹路，请问：这个怎么可以解决？谢谢！

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抛光量为0.03mm，抛光皮阻尼布。

1、抛光皮或抛光液里有杂质 过滤不良。
2、用更细的磨料，#8000目上还有1W多的
3、磨料太硬。

一般抛光前当然应观察应抛光材料的粗糙度，太粗糙了，如平面可先上磨床细磨一遍，如凹凸不平不宜磨，只有用粗砂纸，由粗至细按照标号用手工去抛，当用到最细的砂纸号后就用抛光膏再用高速打磨机装上棉捧进行抛，将加工纹抛去后会留下光纹，最后用棉花沾上抛光膏用手抛，这样可将抛光纹除掉，最后可达到镜面要求，也就是说连一条砂纸纹都找不到。

用更细的抛光粉抛之。

最后还要用布轮抛光吧？我们抛光金相样品时是这样。