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来源：百度知道 编辑：UC知道 时间：2024/07/02 18:51:13
A key question in the fabrication of functional nanostructures regards the controlled positioning and connection of defined nanoobjects. The most frequently used approach employs a variety of sophisticated lithographic techniques for the patterning of substrates and is referred to as the top-down approach. The second method, the bottom-up approach, builds nanostructures upward from the atom or molecules. In principle, this latter technique allows immense flexibility in the architecture of atoms and resulting functionalities. The top-down approach addresses periodic and aperiodic patterning dimensions of 20nm and larger. Smaller dimensions down to 10nm are feasible but involve growing efforts. The size range between 1 and 50nm is accessible by the bottom-up approach. However, usually the bottom-up approach relies on self-assembly of colloidal，macromolecular or supramolecular units and thus on periodic pattern with perodicities that relate to the molecular weight of the self-organizing m

一个关键的问题在功能纳米结构制备方面的定位和控制方面的界定nanoobjects 。最常用的方法采用了各种先进的光刻技术，图形的基板和被称为自上而下的方法。第二种方法，自下而上的方法，建立纳米向上的原子或分子。原则上，这后一种方法的灵活性，允许巨大的原子结构和由此产生的功能。自上而下的办法解决定期和非周期性图案尺寸20nm和更大。较小的尺寸，以10nm是可行的，但涉及到越来越多的努力。大小的范围为1至50纳米可以通过自下而上的方法。但是，通常是自下而上的办法依赖于自组装胶体，大分子或超单位，从而对定期格局perodicities有关的分子量自组织分子。定位的非周期性或微米分离分子单位或nanometersized物体内缺乏这两种办法。我们讨论如何结合自下而上与自上而下的办法是消除这种模式的差距。

Peridiodic和人工横向纳米结构与微米间距已准备通过结合自上而下的方法（电子束光刻技术） ，以自下而上的方式（形成和房室本地化内金属纳米嵌段共聚物micetles ） 。电子束光刻是用来制造图案模板特征间距大于200纳米粗prestructures 。在这些结构， 7纳米金粒子可定位精确度约为。可达纳米通过自组装聚合物胶束。具体来说，这是通过铸造解决HAuCI4加载嵌段共聚物胶束上prestructured抵制电影。由于毛细管效应和空间位阻阻碍，粒子为中心的prepatterned洞边缘的prestructured线。随后起飞的抵制使清除所有胶束除那些有直接接触的基本底。的嵌段共聚物，然后删除这条等离子体刻蚀聚合物胶束，降低了黄金盐金从而留下点或纳米线的黄金定义数组。