镀膜机光控原理是什么？怎么监控的

镀膜机光控原理是：利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
监控方法：在镀膜过程中，膜层厚度增加后，其透过率或者反射率跟着变化，当到达极值点时其光学厚度为监控波长的1/4，利用这个控制膜厚。晶控法监控膜厚的原理 为利用石英晶体振动频率与其质量成反比的原理，通过仪表监控频率控制膜厚的。

30/50/75W光源经直流稳压电源稳压,使光源强度保持不便,在光源前加一个由同步电机带动的截光片,使光线有时通过,有时通不过,截光频率为每秒300次,因此光源变成了300r/s的交流光源，再经过聚光镜进入单色仪的入射狭缝，经过棱镜将白光分成单色光线，然后通过出射狭缝射出，得到单色光，通过鼓轮转动棱镜调节单色光波长，由出射狭缝出来的光线被光电倍增管接收，将光信号转换为电信号，再经过选频放大后以电流计指示。
在镀膜过程中，随介质膜厚度的增加，在1/4波长和其整数倍的厚度时，其反射光和透射光强度陆续出现极大值和极小值，利用这种原理来控制膜厚的方法叫极值法控制。

原理吧,就光学的那几个原理,监控吧,虽然都是监控,但具体说的话又有很多不同之处.

还是找本书自己看吧 ,这问题几句话说不清楚.

什么光控，是光学膜的厚度监控么？

从光控的光单色性上来说，分单波长监控、双波长监控和宽光谱监控。
以下仅简单介绍最广泛的单波长监控，（单色光来源可以是激光，或是白光+单色仪分光），详细了解还是要去看书查资料。
由光学薄膜的基本原理可知，在镀膜过程中，单色光经由光控片的透过光或反射光光量值将随着膜层厚度的增加而发生类似余弦变化。镀膜过程将停止在预先设定好的光量位置如转折点（极值法，适合镀窄带等规整膜系，也有变波长极值法）或其他位置（定值法、AB法等）。
从光控监测位置看，又分间接监控和直接监控。
所谓间接监控，最常见到的，监控片放在中心，且固定不动。
所谓直接监控，监控片放在工件架上，随工件架一起运动，监控片可以是产品自身。
直接监控早已有之，2000年左右的DWDM镀膜机，间接与直接的结合。
这些年，对带宽略宽的窄带需求增长，催生了直接监控的进一步发展。